自适应光学系统在高功率激光中具有重要作用，可以改善光束聚焦，提高应用端的峰值功率密度。
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产品描述
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波前传感器-PHASICS
自适应光学系统在高功率激光中具有重要作用，可以改善光束聚焦，提高应用端的峰值功率密度。Phasics的SID4系列波前传感器结合客户选择的变形镜系统，提供了最精细的相位校正能力，可基于多年的自适应光学经验为客户提供最佳反馈和控制方案。
产品特点： |
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SID4的范围从UV到IR
型号详见下表：
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| 光谱范围 | 有效孔径(mm²) | 空间分辨率 | 采样相位点 | 相位精度 | 相位分辨率 | 真空度 | |
| SID4 UV | 250-400 nm | 7.4x7.4 | 29.6 µm | 250x250 | 10 nm RMS | 2 nm RMS | - |
| SID4 UV HR | 190-400 nm | 13.84x10.89 | 38.88 µm | 355x280 | 10 nm RMS | 1 nm RMS | - |
| SID4 V | 400-1100 nm | 4.73x3.55 | 29.6 µm | 160x120 | 10 nm RMS | <2 nm RMS | >10-6 mbar |
| SID4 | 400-1100 nm | 5.02x3.75 | 27.6 µm | 182x136 | 10 nm RMS | <2 nm RMS | - |
| SID4 HR | 400-1100 nm | 9.98x8.64 | 24 µm | 416x360 | 20 nm RMS | <2 nm RMS | - |
| SID4 UHR | 400-1100 nm | 15.16x15.16 | 29.6 µm | 512x512 | - | <2 nm RMS | - |
| SWIR | 0.9-1.7 µm | 9.6x7.68 | 120 μm | 80x64 | 15 nm RMS | <2 nm RMS | - |
| SWIR HR | 0.9-1.7 µm | 9.6x7.68 | 60 µm | 160x128 | 15 nm RMS | <2 nm RMS | - |
| eSWIR | 0.9-2.35 µm | 9.6x7.68 | 120 µm | 80x64 | <40 nm RMS | <6 nm RMS | - |
| DWIR |
3-5 µm&8-14 µm |
10.08x8.16 | 68 µm | 160x120 | 75 nm RMS | 25 nm RMS | - |
| LWIR | 8-14 µm | 16 x 12 | 100 µm | 160 x 120 | 75 nm RMS | 25 nm RMS |
Phasics 的SID4 波前传感器可以兼容任何类型的变形镜系统，在拍瓦激光系统中，搭配法国ISP 公司的机械式变形镜系统，为客户提供性价比最高的波前测量和控制方案。
除了校正激光系统中的像差等波前扭曲之外，SID4还可以放置在聚焦元件（比如离轴抛物面镜）的后面，如偏离轴的抛物面镜，以实现最佳聚焦。该传感器还可以控制变形镜的姿态，从而控制聚焦点的三维位置。
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对于研究激光与气体相互作用以产生电子或次级辐射源的研究人员来说，SID4不仅提供了与变形镜系统匹配的最佳聚焦点，还可以准确诊断离子化条件下气体静态和动态密度，从而更好地理解激光-气体相互作用过程，并分析电子或次级辐射源的相应特性。以下图片来自LBNL的Bella实验室和法国LOA超强激光设施。
典型应用： |
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